碳层的特性CVD法可获得大面积厚度可控的高质量石墨

碳层的特性。CVD法可获得大面积厚度可控的高质量石墨烯并与现有的半导体制造工艺兼容。Kim等采用CVD法成功制备了高质量石墨烯。他们首先在SiOSi衬底上沉积厚度为nm的金属Ni然后将样品放置于石英管内在氩气气氛下加热到forall再通入流动的混合气体CHHAr最后在氩气气氛下快速冷却冷却速率为foralls-样品至室温即制得石墨烯薄膜。把镍用溶剂腐蚀掉以使石墨烯薄膜漂浮在溶液表面进而可以把石墨烯转移到任何所需的衬底上。用制作镍层图形的方式能够制备出图形化的石墨烯薄膜。他们发现这种快速冷却的方式是后期从基体上有效分离石墨烯片的决定性因素。此法制得的样品未经强烈的机械力以及化学药品的处理从而保证

【触摸屏热线】

联系:张先生

手机:13533054006

除非注明,发表在“触摸屏”的文章『碳层的特性CVD法可获得大面积厚度可控的高质量石墨』版权归触摸屏所有。 转载请注明出处为“本文转载于『触摸屏』原地址http://soonzy.com/60/
菜单